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ICP-MS测试_ICP-MS检测_电感耦合等离子体质谱
点击次数：19发布时间：2017/10/19 10:36:38
更新日期：2017/10/19 10:36:38
所 在 地：中国大陆
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详细内容
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
原理
测定每种化学元素的气态原子或离子受激后所发射的特征光谱的波长及强度来确定物质中元素组成
和含量。用于微量元素的分析，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属。
仪器技术参数
灵敏度：低质量数 Li(7):50 Mcps/ppm；中质量数 Y(89):160 Mcps/ppm（7700x)；高质量
数 Tl(205):80Mcps/ppm(7700x)
检测限：低质量数Be(9):0.5ppt；中质量数In(115):0.1ppt；高质量数Bi(209):0.1ppt
氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x):3.0 %(7700s)
双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0
同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
质谱范围：2-260 amu
丰度灵敏度：低质量端：5x10-7；高质量端: 1x10-7
送样要求
固体样品，需提供100mg以上样品，待测元素的含量必须小于0.1%，样品应烘干并磨碎至200目以
下。液体样品，需提供2ml以上样品，待测元素的浓度必须小于ppm级别，并注明介质种类（何种溶
剂、酸、碱种类）。
尽可能注明样品的主要成份及待测元素的预期含量。确保样品酸度小于5%、含盐度小于0.02%、有
机物浓度小于3%。
金、铂、铌、钽、钯等稀有金属矿石的工业品位（<0.05%）很低，可以用ICP-MS测试。其余金属
矿物则不宜用ICP-MS来测试含矿元素（可送AAS或者XRF测试）。
应用领域
环境试样：如淡水、海水、岩石、土壤、污泥、固液废弃物等
半导体的各种材料、试剂的痕量污染物分析：如试剂中痕量金属元素分析，高纯金属的杂质元素分析等.
食品分析：如奶粉、烟、酒、饮料、油、大米、小麦、肉类、鱼类、火锅底料等
其他分析：纺织品、化妆品、玻璃镀层，陶瓷釉料，橡胶塑料等物质中的金属元素分析.
常见适用标准
GB/T 15072.7-2008、GB/T 6730.63-2006，GB/T 23942-2009，GB/T8538-2008等
