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K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。
磁电管靶使用低电压，可提高效率，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。
腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。
仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供*适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。
功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。
溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。
特点 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积 (扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 ● 可接膜厚监视器，实时监测镀覆层厚度 |
优点 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 精确的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载样品 ● 可预设沉积厚度 |
K500X是K550X的手动版，区别在于它不带旋转样品台，手动操作。所有的其它特点和技术规格与K550X相同。
技术规格
仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
样品台：直径为60 mm，靶面距离40mm,具有倾斜
装置的旋转台
真空范围:ATM-1x10-2 mbar
溅射电流:0-50mA
沉积速率:0-25nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
预设置针阀:控制氩
电源:230 伏 50Hz
(10 amp max. including Pump)
