应用：

· 刻蚀 / 沉积作用研究
· 离子植入 / 激光烧蚀
· 残余气体分析 / 泄漏检测
· 等离子体电极耦合，即在操作中遵从电极设定条件
· 通过视口、接地电极和驱动电极进行分析

特点：

· 软件控制的离子汲取光学系统，以使等离子体扰动*小
· 45°静电扇区分析器，扫描能量增量 0.05 eV / 0.25eV FWHM
· 所有能量范围内，离子行程的*小扰动，及恒定离子传输
· 带差式泵的三级过滤四极杆，质量数范围至2500amu
· 高灵敏度 / 稳定的脉冲离子计数检测器，有7个数量级的动态范围
· 可调谐的离子源，用于电子附着选件的表观电势质谱分析
· Penning规和互锁装置可提供过压保护
· 信号选通分辨率1μs，用于研究脉冲等离子体或能量、质量分布随时间的变化
· 1000eV 选配, 漂浮电压可选至10keV, Faraday 杯用于高密度等离子体
· Mu-Metal, Radio-metal 屏蔽可选,高压操作可选
· 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，控制软件MASsoft